金属製品・材料

金属製品・材料

自動車や産業機械分野に加え、半導体やドローン・eVTOLに代表される次世代モビリティ分野向けに、
技術革新を支えるコア材料・高純度材料・部品を、仕様に応じて海外から調達しています。
研究開発から量産フェーズまで、継続的にお客様のものづくりを支援します。

鋼管・鋼材

自動車や産業機械の現場で求められる鋼管・鋼材を、用途や加工条件に合わせて国内外からご提案しています。
安定した品質と供給を通じて、安心できるものづくりを支えます。

高純度原料・材料

半導体製造プロセスで求められる高純度金属材料・部品を幅広く提供しています。
品質管理を徹底した調達と安定供給により、先端デバイスの開発・量産を材料面からサポートします。

銅（Cu）

純度：3N〜5N

半導体配線および高度な薄膜形成に使用される高純度銅。

アルミニウム（Al）

純度：3N〜5N

半導体製造における導電・反射材料として広く使用。

インジウム（In）

純度：3N〜5N

化合物半導体および透明導電膜の重要材料。

タンタル（Ta）

純度：3N〜5N

高密度半導体配線構造で使用されるバリア金属。

モリブデン（Mo）

純度：3N〜5N

先端デバイスのゲート電極やバックコンタクト層に使用。

セレン化亜鉛（ZnSe）

純度：3N〜5N

化合物半導体および光電子デバイスの機能層材料。

タンタル系化合物

純度：3N〜5N

高密度半導体配線用途向けバリア材料。

モリブデン化合物

純度：3N〜5N

ゲート電極および裏面接触層用途。

セレン化亜鉛（ZnSe）

純度：3N〜5N

光電子用途向け機能性材料。

テルル化亜鉛（ZnTe）

純度：3N〜5N

薄膜電子用途および化合物半導体材料。

リン化インジウム（InP）

純度：3N〜5N

高速・高性能光電子デバイス向け材料。

リン化ガリウム（GaP）

純度：3N〜5N

LEDなどの光電子用途に使用。

半導体ターゲット材例

フロー

原材料

高純度金属、化合物、酸化物

ターゲット材料

成膜用ターゲット材料に加工

薄膜形成

真空蒸着、CVD、エピタキシャル成長法 など

• 半導体メモリ
• パワーデバイス
• 光デバイス

粒子サイズ、加工内容、酸化具合により外観が異なる場合があります。

用途別加工例

銅配線（Copper Interconnects）

アルミ金属層

ZnTe/CdTe 太陽電池

光電子チップ（GaP/InP/GaAs）

ZnSe 赤外レンズ

透明 ZnO 薄膜トランジスタ

※外観は粒径、加工条件、酸化状態により異なる場合があります。